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金亨科普|直流二极溅射原理及装置
时间:2019-02-10 来源:德州金亨新能源
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       直流二极溅射的基本装置如图2-10所示.溅射时先将真空室抽至10-3Pa左右,之后通入氯气并维持在10-2~101Pa范围.在阴极上加2~5kV的负高压,阳极(基片)接地,这样在阴极和阳极之间就会产生辉光放电,阴极发射出来的一次电子被电场加速后,使氯气产生电离,产生的正离子向阴极方向运动,入射到靶上并打出阴极表面的原子及电子(也称二次电子).原子沉积在基片上形成薄膜,二次电子在电场中加速后变成快电子(相对于转变成的一次电子),这种快电子维持着辉光放电持续发生.其基本原理如2-11图所示:




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