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金亨科普|直流二极溅射原理及装置

时间：2019-02-10 来源：德州金亨新能源

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直流二极溅射的基本装置如图2－10所示．溅射时先将真空室抽至10－3Pa左右，之后通入氯气并维持在10－2～101Pa范围．在阴极上加2～5kV的负高压，阳极（基片）接地，这样在阴极和阳极之间就会产生辉光放电，阴极发射出来的一次电子被电场加速后，使氯气产生电离，产生的正离子向阴极方向运动，入射到靶上并打出阴极表面的原子及电子（也称二次电子）．原子沉积在基片上形成薄膜，二次电子在电场中加速后变成快电子（相对于转变成的一次电子），这种快电子维持着辉光放电持续发生．其基本原理如2-11图所示：